Исследование кинетики образования зарядного пятна на поверхности мишени бистабильных электронно-лучевых приборов. Части I и II

Authors

  • В.Н. Свитенко

Abstract

В первой части получены выражения для потенциала неоднородного зарядного пятна, возникающего на диэлектрике мишени бистабильной электронно-лучевой трубки, работающей в режиме записи, и тока мишени, протекающего при создании этого пятна. Экспериментальными исследованиями установлено влияние воспроизводящего прожектора на параметры зарядного пятна и ток мишени.

Во второй части изучен механизм возникновения зарядной дорожки на диэлектрике мишени при облучении его поверхности движущимся пучком быстрых электронов с подсветкой расфокусированным пучком медленных электронов. Приведены аналитические выражения для определения различных параметров линейного потенциального рельефа, образованного путем сканирования записывающего электронного луча по поверхности мишени.

Полученные результаты полезны при рассмотрении БЗЭЛТ, работающих в режиме внутреннего перезарядного считывания записанной информации.

Published

1971-12-30

How to Cite

Свитенко, В. (1971). Исследование кинетики образования зарядного пятна на поверхности мишени бистабильных электронно-лучевых приборов. Части I и II. Radiotekhnika, 4(19), 113–123. Retrieved from http://rt.nure.ua/article/view/210342

Issue

Section

Articles